Для измерений энергетической освещенности и спектральной плотности энергетической освещенности источников УФ излучения, используемых в технологических процессах в микронаноэлектронике, космической технике, фотохимии, медицине и при диагностике плазмы и для проведения точных измерений энергетической освещенности и спектральной плотности энергетической освещенности экстремального, вакуумного ультрафиолетового излучения в диапазоне длин волн 1...200 нм.
