Для измерений интенсивностей аналитических линий рентгеновской флуоресценции химических элементов, массовой концентрации элементов (от Р(15)...U(92)), угловых положений и интенсивностей дифракционных пиков возникающих от воздействия направленного на анализируемый объект сфокусированного рентгеновского излучения, область применения - неразрушающий контроль в авиационной и космической технике, электронике, машиностроении, металлургии, автомобильной промышленности, строительных конструкций мостов, трубопроводов и др.
